本文標題："釉燒過程與釉層結構固態(tài)或半固態(tài)微粒夾雜檢測顯微鏡"
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釉燒過程與釉層結構固態(tài)或半固態(tài)微粒夾雜檢測顯微鏡
釉燒過程與釉層結構
釉燒上放釉工藝的關鍵問題之一，釉燒溫首先決定于其成分之低
熔點物質之含量，成分決定后，溫度則已決定，雖然釉的基本結構
是屬于玻璃相，但其工藝方式和物理、化學過程均與玻璃不同，相
對于玻璃而言，釉是在低于徹底熔融的溫度下燒成的，故和玻璃相
比，其化學反應是夠完全，釉質結構不夠均勻，在釉燒溫度之下，
通常都還有相當大數(shù)量的固態(tài)或半固態(tài)微粒夾雜于其中，故釉層一
般都是乳濁，半我是的，如果連續(xù)維升高釉燒溫度，也可能使反應
更徹底些，釉層更透明些，
但這時將出現(xiàn)兩種現(xiàn)象，一為釉層流失，二為釉料被瓷體大量吸收
，同樣不能保證釉層光潔度與致密性，故釉燒溫度不宜過高，時間
不宜過短，讓其盡可能地達到反應充分，結構均勻，對基體有一定
的滲透，交界處充分潤滑，略有溶解或反應形成一種具有化學結構
形的過渡層組織，而又不會被基體所大量吸收，升溫也不宜過快，
隨著固相物質不斷被溶入液相，液相的粘度也不斷提高，其對溫度
又可相應地提高一些。
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